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半导体清洗设备

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产品名称设备概述设备结构设备主要技术参数电气控制安全防护技术保障

RCA湿法清洗机

1)采用典型、普遍的湿式化学清洗方法,使硅片清洗更彻底

2)适用于多种规格尺寸硅片的清洗

3)在线式甩干,保证清洗的洁净度

4)全自动控制,可选择自动配、补液,保证了操作的安全稳定性

5)高速移载机械手,伺服驱动控制,保证运行平稳,定位可靠

6)采用国际知名电气元件

RCA湿法清洗机