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半导体清洗设备

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产品名称设备概述设备结构设备主要技术参数电气控制安全防护技术保障

12寸全自动碱腐蚀机

设备用途:该设备用于12寸硅片工艺制造中硅片腐蚀清洗工艺。


设备整机主要由机架、槽体、排风系统、加热系统、电控单元、水路系统及气路系统等组成。


1)主要用于12寸硅片的腐蚀清洗。

2)标准刻蚀工艺,使用KOH/NH4OH/H2O2/HCL等。

3)KOH槽安装旋转和抖动装置,硅片腐蚀更均匀。

4)设置隔断门防止酸碱气混合影响硅片腐蚀效果。

5)槽内安装超声和加热装置。

6)设备后部设有排风系统,保证排风顺畅。

12寸全自动碱腐蚀机