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半导体清洗设备

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产品名称设备概述设备结构设备主要技术参数电气控制安全防护技术保障

全自动硅片预清洗机

全自动硅片清洗设备

1、适用于3”—8”的硅片清洗。

2、采用超声波清洗装置,保证清洗更彻底。

3、上下抛动,增强清洗效果。

4、全自动控制,可选自动配补液系统。

5、高速移载机械手,运行更平稳,定位更可靠,保证运行不产生晃动。

6、人性化操作界面,采用先进触摸屏终端显示,智能化记忆控制,有效提高工作效率。

7、采用国际知名品牌的电器元件。

全自动LED硅片清洗机 此设备适用于砷化镓衬底、硅衬底、蓝宝石衬底的片子

全自动硅片预清洗机